2026년 10월 22일, 중국 대만 지역 "행정원" 제4026차 원회에서 "특허법" 일부 조문 개정 초안을 통과시켰으며, 모두 다섯 가지 중점 사항은 다음과 같다: 컴퓨터 이미지 및 그래픽 사용자 인터페이스가 단독으로 디자인 특허 보호 대상이 될 수 있음, 유사 디자인의 통합 출원 신설, 디자인 특허 우선권 기간을 6개월에서 12개월로 완화, 허여 심결 후 분할 출원 기한 완화, 권리 귀속 분쟁 시 권리자 명의 변경 완화. 초안은 대만 지역 입법 기관에 심의를 위해 제출될 예정이다.
2026년 10월 22일, 중국 대만 지역 "행정원" 제4026차 원회에서 대만 "경제부"가 마련한 "특허법" 일부 조문 개정 초안을 통과시켰으며, 대만 지역 입법 기관에 심의를 위해 제출될 예정이다. 대만 "경제부"는 초안이 입법 절차를 완료한 후 국제 기준에 부합하고 출원인의 출원 절차를 간소화할 수 있다고 밝혔다. 이번 개정의 구조는 "1개 항목 수정, 1개 항목 신설, 3개 항목 완화"로, 모두 다섯 가지 중점 사항이다.
중국 본토 용어로 말하면, 대만 지역의 "디자인 특허"는 외관설계 특허에 해당하고, "우선권 기간"은 신규성 상실 방지 유예 기간에 해당한다.
첫째, 현행 디자인이 "물품"(예: 표시 장치)에 적용되어야 한다는 제한을 완화하여, "컴퓨터 이미지" 및 "그래픽 사용자 인터페이스"가 단독으로 디자인 특허 보호 대상이 될 수 있도록 수정하여 가상 현실, 증강 현실 등 디지털 기술 디자인의 다원화에 대응한다.
둘째, 헤이그 협정, 유럽연합, 미국 등의 입법례를 참고하여 현행 "하나의 디자인에 하나의 출원" 원칙을 완화하여 "둘 이상의 유사 디자인을 하나의 출원으로" 제출할 수 있도록 허용하고, 이에 맞추어 정정, 무효 심판 등 관련 규정을 수정한다.
셋째, 디자인 특허 우선권 기간을 현행 6개월에서 12개월로 완화한다(제122조, 제142조 수정). 이로써 출원인은 제품을 공개 발표하거나 전시한 후에도 해당 공개 사실로 인해 신규성이나 창작성을 상실하지 않는다.
넷째, 디자인 특허 분할 출원 시점을 완화한다. 현행 원출원의 재심사 심결 전에 제출해야 하는 것에서, 원출원 또는 재심사의 허여 심결서 송달 후 3개월 이내에도 제출할 수 있도록 완화하고, 이에 맞추어 특허 불허 사유 및 무효 심판 사유를 수정한다.
다섯째, 권리 귀속 분쟁에서 권리자 명의 변경 신청 상황을 완화한다. 실무상 특허 귀속 분쟁은 고용 관계에 국한되지 않으며, 도급, 명의 도용 출원, 자금 출연 연구개발 위탁 등의 상황에서도 발생할 수 있다. 완화 후 진정한 권리자가 민사 절차를 통해 분쟁을 해결하는 경우, 특허 전담 기관에 권리자 명의 변경을 신청할 수 있다.
초안은 또한 경과 규정을 신설하여 이번 개정 조문 시행 전 특허권의 무효 심판 처리, 그리고 우선권 기간, 유사 디자인 통합 출원 제도, 분할 출원 기한의 적용 상황을 명확히 하였다. ——————————————————————————————————————————————————— 정보 출처: 대만 "경제부 지식재산국" 보도자료 《제4026차 행정원 원회, 「특허법 일부 조문 개정 초안」 통과》, 2026년 10월 22일.
참고: 본문 내용은 공개 정보를 정리한 것으로, 정보 참고용일 뿐 법률 또는 기타 전문적 의견을 구성하지 않으며, 구체적인 결론은 공식 발표 및 개별 사안의 실제 상황을 기준으로 한다.
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