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著作権と意匠
著作権と意匠
2026年10月22日、中国台湾地区の「行政院」第4026回院会は「専利法」一部条文の改正草案を可決した。重点は五つ:コンピュータ画像及びグラフィカルユーザインタフェースを単独で意匠専利の保護対象とできること、類似意匠の合案申請を追加すること、意匠専利の優遇期間を6か月から12か月に緩和すること、査定核准後の分割申請期限を緩和すること、権利帰属の争いにおける権利者名義の変更を緩和すること。草案は台湾地区の立法機関に送られ審議される。
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2026年10月19日、米国最高裁はBMG Rights Management 対 Vetter 事件(事件番号25-1391)において第五巡回区控訴裁の判決を維持した——同判決は、著作者が著作権法第304(c)条に基づき1978年前に行われた世界的な譲渡を終了させ、作品の国外における権利を取り戻すことができると認定した。ただしこの維持は実体判断ではない。四名の裁判官が審理に参加せず、残る五名は定足数に満たないため、最高裁は28 U.S.C. §2109に基づき判断を示したもので、その効力は「同数のまま維持」に等しく、判例としての効力を持たず、ルイジアナ、ミシシッピ、テキサスの三州のみを拘束する。
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