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2026년 10월 22일, 중국 대만 지역 "행정원" 제4026차 원회에서 "특허법" 일부 조문 개정 초안을 통과시켰으며, 모두 다섯 가지 중점 사항은 다음과 같다: 컴퓨터 이미지 및 그래픽 사용자 인터페이스가 단독으로 디자인 특허 보호 대상이 될 수 있음, 유사 디자인의 통합 출원 신설, 디자인 특허 우선권 기간을 6개월에서 12개월로 완화, 허여 심결 후 분할 출원 기한 완화, 권리 귀속 분쟁 시 권리자 명의 변경 완화. 초안은 대만 지역 입법 기관에 심의를 위해 제출될 예정이다.
2026년 10월 19일, 미국 연방대법원은 BMG Rights Management 대 Vetter 사건(사건번호 25-1391)에서 제오순회항소법원의 판결을 유지했다. 그 판결은 저작자가 《저작권법》 제304(c)조에 따라 1978년 이전에 이루어진 전 세계적 양도를 종료하면 작품의 역외 권리를 회수할 수 있다고 인정한 것이다. 그러나 이 유지는 실체적 재판이 아니다. 대법관 네 명이 심리에 참여하지 않아 나머지 다섯 명으로는 법정정원을 채우지 못했고, 대법원은 28 U.S.C. §2109에 따라 결정을 내렸으므로 그 효력은 "동수 유지"와 같아 판례적 효력이 없으며, 루이지애나, 미시시피, 텍사스 세 주에만 구속력이 있다.
